等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光技术难题的一些潜在的解决方案
如何提高等离子体的生成、控制和稳定性，可以通过采用一些新型的电源、电极、抛光液等，以实现更高的电压、电流、以及更佳的电场分布和抛光液流动。如何扩大等离子抛光技术的适用范围，可以通过开发一些新型的设备和工艺，如喷射等离子抛光、真空等离子抛光、控制气氛等离子抛光等，以实现对不同材质、形状、尺寸的工件的抛光，以及对不同领域和行业的应用。如何解决等离子抛光技术的环境和安全问题，可以通过使用一些环保和再生的抛光液，如盐水溶液、碱性溶液等，以减少废液的排放和处理，同时也可以通过使用一些保护装置和措施，如隔离罩、通风系统、防火系统等，如何提高等离子抛光技术的智能化和自动化水平，可以通过利用一些的传感器、控制器、软件等，实现对抛光过程的实时监测、调节和优化，以及对抛光结果的评估。如何加强等离子抛光技术的理论和实验研究，可以通过利用一些的仪器、设备、方法等，开展更多的理论和实验研究，揭示等离子抛光过程中发生的复杂的物理、化学、电化学、热力学等机理，以及对工件表面性能的影响规律。
简单看来温控就是温度控制、其实不然、如果只是温控器的确是这样，一旦将温度采集到了PLC里面、可以实现1低温停止抛光作业有效防止因温度太低而导致设备过流甚至烧坏电源2可以设置有效温差、不让加热系统长期频频动作、对于对温度敏感的材料实现温度控制。3可以通过液位控制实现抛光槽里面缺液加热不工作、有效保护加热系统不被损坏八溢自动化设备有限公司生产的铜合金自动抛光设备是左右横着挂的、机器里面有付挂架支撑着挂具，翻转时只票将持具锁紧螺丝松开，即可很轻松的实现任意角度度翻转、轻松应对不同面的抛光。
