电解质等离子抛光过程中受抛光产生的金属微粒的干扰，无法使用电导法对抛光液中有效成分的含量进行检测，为了解决这一问题，基于实验提出了两种确定抛光液有效成分含量的方法。一种方法是利用抛光液中的有效成分低于抛光的电流密度会明显下降的现象，定时测抛光过程中电流值和抛光液温度，以确定是否需要补充。另一种方法是通过实验得到定抛光液温度下抛光量与有效成分消耗量的关系，再在抛光过程中记录抛光量计算抛光液中有效成分含量的方法。

对于不能去除的表面缺陷，可以在等离子抛光之前或之后采用其他的表面处理方法，如机械抛光、电解抛光、离子束抛光等，以达到更好的效果。对于抛光液的补充或更换，可以采用自动化或智能化的控制系统，实时监测和调节抛光液的温度、浓度、pH值等参数，保证抛光液的稳定性和有效性。对于抛光深度较浅的问题，可以通过优化工艺参数，如电压、电流、时间、间隙等，增加等离子体与工件表面的作用强度和时间，提高抛光深度和精度。对于设备的投资成本较高的问题，可以通过提高设备的性能、稳定性、寿命和可靠性，降低设备的运行和维护成本，提高设备的使用效率和回收率，增加设备的经济效益。对于技术的研发和应用还不够成熟的问题，可以通过加强科研投入和合作，开展更多的理论和实验研究，探索更多的应用领域和优化参数，制定更多的标准和规范，推广更多的技术交流和。

近年来，随着科技的不断发展，越来越多的技术被应用到各个领域中。其中，等离子放电原理技术在表面微观整平领域发挥着重要作用。利用这一技术，可以让放电通道更多地是在微观凸起的位置形成，从而优先去除该位置的材料，从而达到表面微观整平的效果。抛光开始阶段，粗糙度下降速度较快，但随着抛光时间的延长，该趋势逐渐减弱。通过分析离子放电原理，探究其对微观凸起位置材料的优先去除效果。研究表明，在抛光开始阶段，由于样件表面存在明显凹凸不平的状态，离子在凸起处更加集中，放电通道更多地选择在凸起的位置形成，从而使粗糙度下降速度较快。但随着抛光时间的延长，样件凹凸不平的状态得到改善，放电通道更多在微观凸起位置形成的趋势减弱，从而使粗糙度下降的速度减小。