SU8模具制备流程

1.备片

从化学品存放区取出清洁的硅片（确保硅片表面无尘）。

2.匀胶

1）打开匀胶机，将硅片放置在匀胶机托盘上，打开真空开关，确保硅片固定在托盘上不动；

2）将SU8光刻胶滴在硅片中间，根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。（举例说明：目标胶厚度50um，光刻胶型号：SU8-2075，1段500转8s，2段1800转30s）

3.前烘

1）将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上，进行预热烘烤，SU8模具加工设备，去除光刻胶中的挥发性有机溶ji，时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um ，设置温度65℃，烘烤15min，然后温度95度，SU8模具加工设备，烘烤15分钟）

4.曝光

1）将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。

2）使用相应的掩模（掩膜）放置在硅片上进行曝光，曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。（举例说明：目标胶厚度50um，设置曝光能量25mw/cm2，时间12s）

微流控芯片加工设备： 提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。

光刻胶SU-8是一种常用的负性光刻胶，SU8模具加工设备报价，通常由环氧树脂和光敏剂组成，它具有许多优点，使其在制备微结构和器件方面成为理想的选择：

高分辨率：SU-8光刻胶具有出色的分辨率，可以制备细致的微结构，SU8模具加工设备优点，适合制作小尺寸线条和微细图案。

粘附性强：SU-8光刻胶在许多基片表面具有良好的粘附性，可以在不同材料上制备微结构。

厚度可调：SU-8光刻胶可以通过多次涂覆和光刻来控制厚度，适用于制备不同厚度的微结构。

化学稳定性：SU-8光刻胶具有较高的化学稳定性，可以耐受许多溶剂和化学物质，适用于各种应用环境。

热稳定性：SU-8光刻胶在高温下具有较好的稳定性，适用于需要高温处理的制备过程。

多层光刻：SU-8光刻胶可用于多层光刻制备，能够实现更复杂的微结构和器件。

应用广泛：SU-8光刻胶在微流体器件、生物芯片、MEMS、光学器件等多个领域中得到广泛应用。

顶旭（苏州）微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业。提供丰富多样的微流控芯片加工设备，涵盖SU8模具加工、PDMS芯片加工和玻璃芯片加工。可以帮助客户在自己的实验室内进行微流控芯片的快速制作，从而提高实验效率和灵活性。

耗材

硅片

硅片没有特殊要求，单面抛光即可。制备SU8模具时在硅片抛光旋涂光刻胶。

光刻掩膜板

光刻掩膜版（又称光罩，英文为Mask Reticle），简称掩膜版，是制备SU8模具光刻工艺所使用的图形母版，由不透明的遮光薄膜在透明基板上形成微结构掩膜图形，通过曝光过程将微结构图形信息转移到SU8光刻胶涂层上，实现微结构的jing确复zhi。光刻掩膜版，一般可分为菲林掩膜版和玻璃掩膜版两种。

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