LDI机

LDI曝光速度的瓶颈因素包括：数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言，有三个独立的因子会影响曝光速率：

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光，直接成像，而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间，高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出，直接成像厂家，主要来自于系统的光源设计，所以这是能量与时间的关系与解析度无关。

网版曝光机

功能特点

1、高功率灯：可选择装配日本进口节能率，快启动3000W高功率紫外线曝光灯源，直接成像曝光机，波长范围360 ~ 410 nm 。

2、高速真空吸气系统：配备进口无尘、无油、静音型真空抽气泵极高张力抗紫外线橡皮布，抽真空速度均匀快速，使网版与底片能够快速、紧密、平整的贴实，适用于高精密线条和高密度网线曝光。

江苏迪盛智能科技有限公司主营直接成像、网版曝光机、无菲林曝光机等产品，线路板曝光机，欢迎来电咨询！

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

操作要求：

（1）在工作过程中印版应保持与玻璃表面的完全接触，真空系统的真空调节的较小范围为0-86.6kPa（0-650mmHg）；关闭晒版机电源后5分钟晒版机的真空度不得降低20kPa(150mmHg)。检测方法如下：将与机器规格相对应的较大尺寸的印版放在晒版机内，闭合真空系统，开启真空泵，用秒表测量真空系统中真空表所显示的真空度达到80kPa(650mmHg)所需时间；然后关闭电源，用秒表计时5分钟，观察真空表所示的真空系统的密封性能。

直接成像-迪盛微电子科技公司-直接成像曝光机由迪盛（武汉）微电子有限公司提供。迪盛（武汉）微电子有限公司是江苏 苏州 ,光电子、激光仪器的见证者，多年来，公司贯彻执行科学管理、创新发展、诚实守信的方针，满足客户需求。在迪盛智能领导携全体员工热情欢迎各界人士垂询洽谈，共创迪盛智能更加美好的未来。