等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子电浆抛光设备的市场需求有多大？
随着生产效率、节能环保、智能操作和无人管理等方面的需求不断提高，我国等离子电浆抛光设备也应该朝着这些方向发展。等离子电浆抛光设备已经展现出了向化转型的强大势头，设备的自动化和智能化水平将大幅提升。因此，机械生产企业面临着行业转型升级的挑战。等离子电浆抛光设备对五金产品的质量、外观、销售流通、使用和成本都有着关键性的影响，国内外尤其是欧美地区对五金等离子电浆抛光设备的研制和开发越来越重视。随着国内抛光工业领域的不断扩大，传统的抛光设备已经不能满足行业高速发展的需求。此外，我国推出了一些认证制度，大幅度提高了国内五金生产的各项要求，也促进了各地抛光企业对自动化、智能化的等离子电浆抛光设备的需求不断增加。在大环境的变化趋势下，只有多功能、多样化、能适应多种材质和模具更换的等离子电浆抛光设备才能够适应市场的需求。
随着半导体工艺的不断发展，对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高，传统的机械抛光技术已经不能满足需求。铜自动抛光设备作为一种新兴的表面处理技术，具有、、无污染等优点，在半导体行业中的应用前景广阔。铜自动抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物，还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面，具有重要的应用价值。
