1、链条每个月加油1次。2、轴承每3个月加油1次。3、抛光机链条张紧度，新机每周查看一次，一个月后每月查看一次。(链条张紧度紧不得小于.04L(8.4mm)，松不得大0.14L29.4mm)4、抛光机定时查看线路是否有破皮、磨损、揉捏、松脱等现象。定时查看链条、链齿、轴承等有无自然员耗现象(链条在调理3次后或正常运用一年后须替换，轴承如有异响请替换)。

随着半导体工艺的不断发展，对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高，传统的机械抛光技术已经不能满足需求。抛光机作为一种新兴的表面处理技术，具有、、无污染等优点，在半导体行业中的应用前景广阔。抛光机不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物，还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面，具有重要的应用价值。

在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。