等离子抛光的条件

等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的，首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在还要有被离化的物质，在抛光邻域被离化的物质就是我们的抛光盐，等离子抛光盐是个关键的介质、它也要具备两个条件，一被离化成离子轰击产品表面、二离化的酸根离子要能跟产品表面发生微反应，且是正向的作用、至少不能是负作用，只有这样才能得到等离子抛光的功效。

等离子抛光的原理

在高温超高电流的作用下，电解质水产生电离子，分离化学液态电浆，利用电解质水溶和高温、高压的配合产生等离子，等离子与工件的表面摩擦而产生抛光的效果。等离子抛光的过程中涉及到化学变化，其材料去除机理主要表现在材料的化学去除过程，其原理为反应等离子在放电过程中产生许多离子和化学活物质，这些中性物质称其为自由基，与原来的气体分子相比，这些自由基是活跃的刻溶剂。等离子体的材料去除机理不仅仅包括化学反应的去除原理，还包含物理方法的去除原理，但主要的还是气相化学反应去除原理。

传统金属表面处理方式往往需要借助各种设备，从机械切削、化学腐蚀到电化学处理等，过程繁琐，效率低下，且易产生环境污染。而近年来兴起的等离子抛光技术革新了金属表面处理方式，可以快速、地抛光金属表面，使其变得光滑，亮丽，达到理想的质感。等离子抛光技术是指利用离子放电原理，通过高能量的放电通道来抛光材料表面，从而实现金属表面微观整平。相比传统处理方式，等离子抛光技术适用于多种以上的金属材质，一台设备即可完成多种材质产品的抛光处理，省去了企业高昂的购机成本。此外，等离子抛光技术效率极高，一分钟即可抛光100多件产品，抛光效果镜面高亮精度可达0.002mm，粗糙度(RMS)可达0.01微米，生产效率得到大幅提升。

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