微流控光刻机设计-顶旭(在线咨询)-丽水微流控光刻机

SU8模具制备流程


一、备片

从化学品存放区取出清洁的硅片(确保硅片表面无尘)。







匀胶

1)打开匀胶机,将硅片放置在匀胶机托盘上,打开真空开关,确保硅片固定在托盘上不动;








将SU8光刻胶滴在硅片中间,丽水微流控光刻机,根据光刻胶的厚度和制备要求设置匀胶机转速和时间。(举例说明:目标胶厚度50um,光刻胶型号:SU8-2075,微流控光刻机介绍,1段500转8s,微流控光刻机设计,2段1800转30s)










桌面光刻机作用

桌面光刻机的作用主要是将芯片制造过程中的微小部分通过照相方法制作出来。使用这种方法,可以在方寸大小的面积内集成多达数千个微型元件的功能性电路,广泛应用于、等高科技领域以及消费电子产品中。这种设备对于普通消费者而言并不实用,但可以为那些需要精密加工和电子设计的工程师提供一定的帮助和学习价值。总的来说,它在提高技术知识和技能方面具有一定的意义。





数显测厚规(千分款)






测量匀胶厚度

量程:0~10mm

精度:0.001mm

公差:≤±0.005mm


显微镜







观察头:铰链式三目观察头,30°倾斜,瞳距48~75mm

目镜:超大视野目镜 10X/22

无xian远平场消色差物镜:4X/0.1,10X/0.25,20X/0.4,40X/0.65

转化器:四孔转换器

载物台:载物台面积300×268mm,移动范围250×250mm

焦距调节:同轴粗微动调焦机构,行程24mm

照明系统 :6V20W卤素灯,亮度可调

滤色镜 蓝色、黄色、绿色、磨砂玻璃片




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