地埋式污水处理设备运行过程   1.首先检查进气口和调节罐的格栅是否畅通无阻。   2.打开机房的电控箱   3.启动水泵，生活污水处理，根据流量计调节水量，观察水位   4.当缺氧池和MBR池已满时启动风扇。   5.根据MBR池中设定的曝气时间进行曝气   6.在达到MBR池中的通气时间后，打开抽吸泵。   7.打开消毒装置并排出水。 地埋式污水处理设备控制有两种形式：手动控制和自动控制。   在PLC的控制下，进水泵根据每个反应池的水位自动运行。 抽吸泵间歇运行一段预设的时间。 当MBR反应罐处于低水位时，抽吸泵自动停止以保护膜组件。

半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

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有时通常需要将一些去除污染物的药1物放入化工废水处理设备中。 这就需要及时观察各个排放管是否保持畅通，是否有堵塞，应及时清理并排除。 保持化工废水处理设备的正常使用，如果不及时消除堵塞现象，则化工废水处理设备在运行过程中容易损坏，在实际应用中并不罕见。  对于化工废水处理设备，搅拌装置是设备中非常重要的部分。 如果化工废水处理设备的搅拌装置出现问题，则当排放污水时，化工废水处理设备将无法正常运行。化工废水处理设备的搅拌须保持足够的搅拌才能达到指1定的清洁效果。

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