粗抛的目的是去除工件表面较大的披锋、毛刺和刮伤等，这一阶段应具有大的抛光速率，粗抛形成的表层损伤是次要的考虑，不过也应当尽可能小。抛光机抛光时，试样磨面与抛光盘应相对对平行并均匀地轻压在抛光盘上，注意防止试样飞出和因压力太大而产生新磨痕。抛光技术是金属表面处理的关键技术之一，抛光无论是在传统产业还是在电子数码产业中是不可或缺的生产步骤。

金属表面电解质等离子抛光利用气液等离子体发生技术，将工件置于抛光液中，施加一定的电压，使工件周围的抛光液汽化，形成一个包裹工件的气层，通过在气层的不同位置形成放电通道，将表面材料微观凸起地去除，实现对金属工件表面抛光。在该抛光体系下电极(抛光工件)、放电介质、气层和抛光液等离子层五相共同作用，主要通过放电去除表面材料，该技术不仅能解决传统机械抛光方法达到的死角位的问题，特别对形状复杂的工件达到很好的抛光效果。抛光后的产品无需除油、除蜡。只需水洗，烘干即可。

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。