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视频作者:东莞市八溢自动化设备有限公司





等离子技术抛光过程中理想的抛光温度是多少?

抛光液的温度越低,材料的去除速度越快。低温条件下材料的去除速度快主要是因为: 温度越低,抛光液被蒸发需要吸收的热量就越多,相同条件下生成的气体越少,包围在零件周围的混合气体层越薄,而在压强和电压不变的情况下,气体变薄就意味着电场强度增大,导致碰撞电离系数显著增大,虽然总的碰撞距离减小,但仍然有更多的电子冲击到工件表面,材料的去除速度当然更快。但在抛光液低温情况下,混合气体层较薄,也意味着气体层不太稳定,等离子抛光过程中断并转变一般电解的的可能性越大,同时气体层薄也意味着系统的电阻减小,电流增大,且电流值大幅度变化,常常引起零件尖锐部位烧蚀等现象,这对复杂形状零件和大尺寸零件来说特别明显。随着抛光液温度的提高,等离子纳米抛光过程开始稳定,90-100属于理想加工温度范围,在这一范围内材料的去除速度虽然不是快,却更容易获得更好的表面质量。温度继续升高将导致抛光液气化增强,混合气层温度升高厚度增加,加工时间也相应延长。当抛光液温度达到95-99°C时,等离子加工过程转到泡沫状态。抛光液沸腾,蒸气气层失去自身的尺寸和形状整个零件处于连续移动的泡沫中,其电阻与等离子理想加工状态的气层电阻值相比大大提高,此时被加工表面电流也会减小。


等离子抛光技术的创新性与透明性

等离子抛光技术是一种全新的表面处理技术,与传统的机械抛光和化学抛光相比,具有更高的效率、更高的精度和更低的污染性。它可以通过创新的处理方法和设备,实现更加复杂的表面处理效果,为材料加工和制造业的发展带来新的机遇和挑战。等离子技术可以在真空或者惰性气体环境下进行表面处理,避免了空气中的氧化和污染,同时还可以实现对材料表面的透明处理。它可以去除表面的氧化层和污染物,同时保持材料表面的透明性和光泽度,为光学和电子材料的制造提供了新的解决方案。


随着生产效率、节能环保、智能操作和无人管理等方面的需求不断提高,我国等离子电浆抛光设备也应该朝着这些方向发展。等离子电浆抛光设备已经展现出了向化转型的强大势头,设备的自动化和智能化水平将大幅提升。因此,机械生产企业面临着行业转型升级的挑战。等离子电浆抛光设备对五金产品的质量、外观、销售流通、使用和成本都有着关键性的影响,国内外尤其是欧美地区对五金等离子电浆抛光设备的研制和开发越来越重视。随着国内抛光工业领域的不断扩大,传统的抛光设备已经不能满足行业高速发展的需求。此外,我国推出了一些认证制度,大幅度提高了国内五金生产的各项要求,也促进了各地抛光企业对自动化、智能化的等离子电浆抛光设备的需求不断增加。在大环境的变化趋势下,只有多功能、多样化、能适应多种材质和模具更换的等离子电浆抛光设备才能够适应市场的需求。

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