1、启动曝光:确认参数设定无误后,匀胶机公司,点击启动按钮,河南匀胶机,设备将开始进行曝光。
2、监控曝光过程:在曝光过程中,您可以通过设备界面监控曝光进度,确保一切顺利进行。
3、曝光完成:曝光结束后,设备会发出提示,匀胶机优势,取出硅片和光刻板。
顶旭微控
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累,持续将zhuan业知识与创新思维相结合,为客户提供gao品质的解决方案。我们将始终坚持以客户为中心,不断挑战自我,不断追求zhuo越,通过zhuan业、创新和合作,为客户创造更大的价值,共同开chuang微流控领域的美好未来。
前烘
1)将涂布好SU8光刻胶的硅片放置在热板上,进行预热烘烤,去除光刻胶中的挥发性有ji溶剂,匀胶机怎么样,时间和温度根据光刻胶厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um ,设置温度65℃,烘烤15min,然后温度95度,烘烤15分钟)
曝光
1)将预热后的硅片放置在桌面光刻机托盘上。
2)使用相应的掩模(掩膜)放置在硅片上进行曝光,曝光时间和强度根据SU-8光刻胶的类型和厚度进行调整。(举例说明:目标胶厚度50um,设置曝光能量25mw/cm2,时间12s)
后烘
将曝光后的硅片放置在热板上,进行后曝光烘烤,以确保光刻胶的交联反应完成。(举例说明:目标胶厚度50um,设置温度65℃,烘烤7min,然后温度95℃,烘烤3min)
六、显影
将硅片放入显影剂中,使未曝光部分的光刻胶溶解,形成模具的图案。(显影时间根据光刻胶厚度和显影剂浓度进行调整,此处显影时间20min)
清洗
将显影后的硅片用异bing醇溶剂进行清洗,去除多余的光刻胶。
检查
使用显微镜检查制备的SU-8模具,测试观察制备的微结构尺寸,确认图案的清晰度和质量。
使用方法
该设备操作简单,易于上手,具体操作如下:
一、曝光前准备工作
1、硅片处理:确保待曝光硅片经过匀胶处理,表面干净平整,没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板:根据项目需要,选择合适尺寸的光刻板,本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查:仔细检查设备,确保所有部件处于正常工作状态,确保操作环境良好。
二、曝光操作步骤
1、安装硅片:将待曝光硅片平放在设备的载台上,确保位置准确。
2、放置光刻板:将光刻板平放在硅片上方,如果使用菲林掩膜,需要在其上方放置透明玻璃以保持平稳。
3、设定曝光参数:使用控制面板设置曝光时间和强度,根据具体需求进行调整。
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