日照微弧(图)-低电压微弧氧化技术-微弧氧化技术
微弧氧化技术的优势
1.微弧氧化工艺稳定且可靠,设备简单,表面微弧氧化技术,反应在常温下进行,手机壳微弧氧化技术,操作方便,微弧氧化技术,易于掌握。
2.微弧氧化膜有良好的耐磨损性能。
3.微弧氧化膜有良好的耐热性及抗腐蚀性。这从根本上克服了铝、镁、钛合金材料在应用中的缺点,因此该技术有广阔的应用前景。
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微弧氧化技术特点
(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。
(2)原位生长。
(3)氧化膜均匀增厚。
(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。
制备工艺简单。
(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;
(6)耐磨损性能与硬质合金相当;
(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁
合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。
(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃
冲击5次不脱落、不龟裂。
(9)绝缘性能:膜厚不同,低电压微弧氧化技术,表面电阻达 109-12Ω
微弧氧化膜的优势
微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比, 这种膜的空隙率大大降低,从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前,微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成,总膜厚可达100 Lm以上, 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。
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