微弧氧化电源指标-微弧氧化电源-日照微弧氧化电源

微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系,而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期,作用在膜层上的能量较低,产生的熔融物颗粒较少,膜层的表面粗糙度较低;随着时间的延长,膜层表面的能量密度逐渐增大,熔融的氧化产物增多,并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下,氧化物冷却凝固,并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中,产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多,从而增大了膜层表面的粗糙度。另外,在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程,因此,微弧氧化电源,若时间足够长,微弧氧化电源报价,膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。








微弧-电泳工艺简介

微弧电泳复合处理工艺是以微弧氧化处理工艺取代磷化(或阳极氧化)等前处理,正是由于微弧氧化处理的工艺特点及其形成陶瓷层的表面特征,才得以实现简化电泳工艺、大幅度提高铝、镁合金耐蚀性的目的。

铝合金微弧-电泳氧化膜层应控制在5μ以下;镁合金膜层控制在5-15μ为宜。

微弧-电泳工艺流程:氧化 — 清洗 — 喷淋清洗 — 热风烘干 — 电泳 — 喷淋清洗 — 烘干固化



微弧氧化技术是一种低碳环保的兴新表面工艺处理技术。适用于对铝、镁、钛等轻金属以及铝合金的表面处理。它能合理地在PCB原材料表面上原体生长发育一层匀称的陶瓷膜。因为其加工工艺特性显著,表面处理的性能优点凸出,自该技术被创造发明至今,微弧氧化电源指标,深受大家的亲睐。微弧氧化解决是一种在稀有金属表面原点生长发育化合物瓷器的新技术应用。选用微弧氧化技术对镁以及合金制品开展表面瓷器化解决,具备加工工艺全过程简易,占地小,处理工艺能力强,生产制造速度快,适用大批量工业生产等优势。



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