氦质谱检漏仪的原理

氦质谱检漏仪一般由质谱管，真空系统和电子系统组成。其中质谱管包括离子源，质量分析器和离子检测器; 真空系统一般由分子泵、机械泵、电磁阀和真空计组成。离子源的作用是将原子电离成带电离子并聚焦成束，以一定能量注入质分析器，

目前常用的电子轰击型离子源有尼尔型和震荡型两种形式。质分析器的作用起将各类离子按其质荷比的不同实现分离。

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氦质谱检漏仪

今天和大家分享的是氦质谱检漏仪的相关知识，希望对您有所帮助！

氦质谱检漏方法在真空检漏技术领域里已经得到广泛的应用，这种方法的优点是:检漏灵敏度高，检漏设备，可以检漏到10-11Pam3/s 数量级，仪器响应快，充气柜真空箱检漏设备，氦分子在仪器高真空的环境中扩散的速度很高;所以氦质谱检漏仪在许多领域里得到广泛的应用，例如，在航空航天领域里宇宙飞船、航天飞机、火箭、飞机等这些都要用到真空检漏技术。在一般工业领域里原子能、发电厂、配电站、合成氨的氮肥生产厂、汽车制造业、造船工业、制冷工业、冶金工业、输气管道、气罐、油罐、锅炉快餐食品包装等都离不开检漏问题，同样在导1弹武1器装备中也离不开检漏，导1弹弹体、燃料储备罐、燃料运输管道、、特殊部件的密封性都要用到氦质谱检漏，本文主要真对氦质谱检漏原理及方法进行综述。

氦质谱检漏仪的注意事项

检漏仪的响应时间会影响检漏工作的速度，正常运行的仪器响应时间不大于3s。笔者实测时，在漏点处喷射氦气5～10s后，检漏仪就发生响应，对于如此庞大的真空系统，其反应是相当的灵敏。

检漏时喷在漏孔处停留的时间应为仪器响应时间的3倍，该时间再加上氦气在真空系统中的传递时间，SF6真空箱检漏设备，即为两次喷氦的较小间隔时间，当然真空系统越庞大，该间隔时间也越长。笔者根据实测经验，两次喷氦的较小间隔时间控制在30s左右，即如果次喷氦后30s内检漏仪还没有反应，则可进行第二次喷氦。

清除时间在理论上与响应时间相同，但由于仪器零件对氦的吸附和脱附作用的影响，清除时间一般要更长些。笔者测算，在测试到数量级为10-9P a ?m3/s的微漏漏点时，清除时间约须1分钟；在测试到数量级为10-8P a ? m3/s的中漏漏点时，清除时间约须2分钟；在测试到数量级为10-7Pa?m3/s的大漏漏点时，清除时间在3分钟左右。

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