你知道微弧氧化技术工艺是怎样一个流程吗？接下来日照微弧技术有限公司给大家着重介绍一下微弧氧化技术工艺的流程，一起来看一下吧

微弧氧化技术工艺流程主要包含三个部分：1.铝基材料的前处理，2.微弧氧化，3.后处理三部分

微弧氧化技术其工艺流程如下：铝基工件→化学除油→清洗→微弧氧化→清洗→后处理→成品检验。

微弧氧化工艺

微弧氧化工艺技术是直接在有色金属表面原位生成陶瓷层的新技术。微弧氧化工艺技术工艺简单，微弧氧化技术，对环境污染小，微弧氧化技术研究，具备很大的性，它制备的膜层特点鲜明，膜层与基体金属属于冶金结合，结合牢固，在制备涂层方面具有明显优势，微弧氧化技术设备，微弧氧化技术已被广泛应用于Al、Ti 和Mg等金属行业，是一种很有前景的表面处理工艺。

相比MoO3，加入钼质量浓度相同的Na2MoO4所得膜层耐蚀性更佳，在添加0.42g/L Na2MoO4时制得膜层其腐蚀电流密度比无添加剂时的低约7倍，比基体的低约1个数量级。故加入Na2MoO4的价比更高。

此外，微弧氧化技术 参数，这2种添加剂的加入，均可在AZ91D镁合金表面制得浅棕色的膜层，起显色作用的物质是MoO2。

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