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光刻靶,作为光刻工艺中的关键部件,光掩膜版价格,主要由基底、反射膜和图案层三部分构成。基底通常采用具有高机械强度和良好热稳定性的材料,如熔融石英或硅片等。反射膜则用于增强光刻过程中的光反射效率,常见的反射膜材料有铝、银等金属。图案层则是光刻靶很关键的部分,其上刻制有精细的图案结构,用于在光刻过程中将图案转移到硅片或其他基材上。


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