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简述

真空镀膜是真空应用领域的一个重要方面，它是以真空技术为基础，利用物理或化学方法，并吸收电子束、分子束、离子束、等离子束、射频和磁控等一系列新技术，为科学研究和实际生产提供薄膜制备的一种新工艺。简单地说，在真空中把金属、合金或化合物进行蒸发或溅射，使其在被涂覆的物体（称基板、基片或基体）上凝固并沉积的方法，称为真空镀膜。

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真空镀膜优点

4.此种设备能使金属蒸镀层表面质量，所镀覆的金属层无和溅泼痕迹等疵病。这是由于电磁功率的增加以及氧化膜和碳质被塔祸壁本身清除干净，使熔融铝的表面清洁无瑕所致。

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