嘉兴膜厚仪EDX8000TPlus-苏州英飞思科学
英飞思XRF镀层测厚仪优势
>微光斑X 射线聚焦光学器件
通过将高亮度一次 X 射线照射到0.02mm的区域,实现高精度测量。
>硅漂移探测器 (SDD) 作为检测系统
高计数率硅漂移检测器可实现高精度测量。
>高分辨率样品观测系统
的点位测量功能有助于提高测量精度。
>全系列标配薄膜FP无标样分析法软件,可同时对多层镀层及全金镀层厚度和成分进行测量
配合用户友好的软件界面,可以轻松地进行日常测量。
⒌测量前要注意周围其他的电器设备会不会产生磁场,膜厚仪EDX8000TPlus,如果会将会干扰磁性测厚法。⒍测量时要注意不要在内转角处和靠近试件边缘处测量,因为一般的测厚仪试件表面形状的忽然变化很敏感。⒎在测量时要保持压力的恒定,否则会影响测量的读数。⒏在进行测试的时候要注意仪器测头和被测试件的要直接接触,因此超声波测厚仪在进行对侧头清除附着物质。
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