我认为等离子抛光技术是一种很有前景的表面处理技术，它可以为各种工件提供高质量的表面修形和抛光，提高工件的性能和寿命，同时也可以节约资源和保护环境，符合可持续发展的理念。我也很佩服那些从事等离子抛光技术研究和开发的人员，他们需要掌握很多复杂的理论和技能，不断地创新和优化，为行业和社会做出贡献。但我觉得等离子抛光技术虽然有很多优点，但是也有一些不足或者挑战，例如：对表面的摩擦作用有限，不能去除冲压印迹和表面橘皮，需要与手工抛光或其他方法结合使用。抛光液需要定期补充或更换，否则会影响抛光效果。抛光深度较浅，一般为1-2微米/分钟，对于一些需要深层处理的工件可能不够理想。设备的投资成本较高，尤其是真空等离子抛光设备和控制气氛等离子抛光设备。技术的研发和应用还不够成熟，需要更多的理论和实验支持，以及更多的标准和规范。
未来我们将继续以下等离子抛光技术难题
如何提高等离子体的生成、控制和稳定性，以实现更高的抛光效率和质量，以及更低的能耗和成本。如何扩大等离子抛光技术的适用范围，以实现对更多种类、形状、尺寸的工件的抛光，以及对更多领域和行业的应用。如何解决等离子抛光技术的环境和安全问题，如如何减少废液的排放和处理，如何避免电磁干扰和噪音等。如何提高等离子抛光技术的智能化和自动化水平，以实现对抛光过程的实时监测、调节和优化，以及对抛光结果的评估和反馈。如何加强等离子抛光技术的理论和实验研究，以揭示等离子抛光过程中发生的复杂的物理、化学、电化学、热力学等机理，以及对工件表面性能的影响规律。
等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
