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溅射技术:溅射是制备薄膜材料的主要技术之一,它利用离子源产生的离子,玫瑰金靶材报价,在真空中经过加速聚集,而形成高速度能的离子束流,轰击固体表面,江西玫瑰金靶材,离子和固体表面原子发生动能交换,使固体表面的原子离开固体并沉积在基底表面,玫瑰金靶材价格,被轰击的固体是制备溅射法沉积薄膜的原材料,称为溅射靶材。各种类型的溅射薄膜材料无论在半导体集成电路、太阳能光伏、记录介质、平面显示以及工件表面涂层等方面都得到了广泛的应用。




 溅射靶材ITO靶材的生产工艺 ITO靶材的生产工艺可以分为3种:热等静压法(HIP)、溅射靶材热压法(HP)和气氛烧结法。各种生产工艺及其特点简介如下:

 热等静压法:ITO靶材的热等静压制作过程是将粉末或预先成形的胚体,在800℃~1400℃及1000kgf/cm 2~2000kgf/cm 2的压力下等方加压烧结。热等静压工艺制造产品密度高、物理机械性能好,但设备投入高,生产成本高,产品的缺氧率高。




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