微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，100kw微弧氧化电源，作用在膜层上的能量较低，微弧氧化电源，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，表面处理微弧氧化电源，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

微弧氧化技术

将微弧氧化陶瓷化转化技术与为满足不同服役条件而选定的后续涂装技术相结合而形成复合涂层的一种短流程无污染排放的环保型表面处理技术，优异的表面保护效果满足了镁合金制品于各种服役条件的表面性能要求。微弧复合处理技术具有简单、环保、无排放，处理，涂层综合性能优异，微弧氧化电源类型，以及对材料的适应性强（复杂构件或深孔管件）等优点，已成为业界认可的镁合金“环保型”表面处理技术。

微弧氧化的发展方向

在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：

①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；

②通过神经网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；

③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源

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