技术参数
曝光光源:紫外LED光源波长:365nm;
曝光面积:4英寸、6英寸可选;
曝光方式:单面接触式定时曝光;
曝光分辨率:2um;
曝光强度:20~200mW/cm2可调;
曝光不均匀性:≤5%;
光源平行性:≤2°;
光源寿命:≥20000h;
电源输入:AC220V±10V,50HZ
功率:250W
重量:25kg
外形尺寸:382(长)*371(宽)*435(高)
工作环境:温度0℃-40 ℃,相对湿度<80 %
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等quan面的微流控解决方案。公司团队拥有丰富的经验和技术积累,微流控光刻机价格,持续将专ye知识与创新思维相结合,为客户提供高pin质的解决方案。
脑芯片如何定制
使用方法该设备操作简单,易于上手,具体操作如下:
一、曝光前准备工作
1、硅片处理:确保待曝光硅片经过匀胶处理,微流控光刻机优势,表面干净平整,没有明显的污渍或破损。
2、选择光刻板:根据项目需要,选择合适尺寸的光刻板,本设备兼容4英寸、5英寸或6英寸。
3、设备检查:仔细检查设备,微流控光刻机,确保所有部件处于正常工作状态,确保操作环境良好。
顶旭(苏州)微控技术有限公司是一家专注于微流控领域的高科技企业,我们致力于为客户提供微流控芯片定制、表面修饰改性、微流控芯片加工设备、以及微流控仪器等全mian的微流控解决方案。
顶旭光刻机广泛适用于微流控芯片、MEMS器件、光电子器件以及声表面波器件等制备领域。其性能尤其适合高校、科研院所以及企业展开微细加工工艺研究。紧随现代技术的步伐,顶旭桌面微型光刻机的问世为微纳加工注入了新的活力,助力客户在项目目标的实现过程中迈向更高精度、更具创新性的阶段。
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微流控光刻机-顶旭微控技术有限公司-微流控光刻机优势由顶旭(苏州)微控技术有限公司提供。顶旭(苏州)微控技术有限公司在生物制品这一领域倾注了诸多的热忱和热情,顶旭一直以客户为中心、为客户创造价值的理念、以品质、服务来赢得市场,衷心希望能与社会各界合作,共创成功,共创辉煌。相关业务欢迎垂询,联系人:周经理。