这些干扰要有效识别和消除 ICP-MS 质谱仪中的干扰，可以采取以下一些方法

干扰校正方程：通过建立干扰校正方程，利用已知的干扰元素和目标元素的关系，对干扰进行校正。

内标法：使用内标元素来监测和校正信号的变化，电感耦合等离子体发射光谱仪价格，以补偿基体效应和其他干扰。

碰撞/反应池技术：利用碰撞/反应池来去除或降低多原子离子、分子离子等干扰。

选择合适的质量数：避免选择受到严重干扰的质量数，或者采用高分辨率质谱仪来区分干扰和目标离子。

优化仪器参数：调整射频功率、离子源气体流量等参数，以减少干扰的影响。

样品前处理：适当的样品前处理方法可以去除干扰物质，如稀释、萃取、净化等。

同位素比值测量：通过测量同位素比值，可以消除一些干扰的影响，并提供的分析结果。

质量筛选：利用质量筛选技术，只监测特定质量数范围内的离子，减少干扰的干扰。

数据处理方法：采用合适的数据处理软件和算法，如背景扣除、平滑、校正等，来校正干扰。

标准加入法：通过添加已知浓度的标准物质到样品中，校正基体效应和干扰。

识别和消除干扰需要综合考虑多种方法，并根据具体的分析需求和样品特点选择合适的策略。同时，定期进行质量控制和方法验证也是确保干扰得到有效校正的重要步骤。

钢研纳克国产ICP-MS PlasmaMS 300

 优势1——的四极杆电源驱动技术

DDS变频技术

自动频率匹配调谐，无需手动调电容，更安全

没有机械电容部件，拥有的稳定性、抗震动，无需经常校准质量轴

：《 一种用于四级杆质谱仪的射频电源》201610006009.2

PlasmaMS 300 优势2——的真空控制系统

的缓冲技术，机械泵间断运行，仪器待机功耗极低

解决高真空腔体被机械泵油气污染问题，保证仪器长时间性能稳定

受保护《一种电磁阀缓冲、无返油涡轮分子泵抽真空系统》ZL2017 20926451.7

ICP-MS装机量已在8000台以上，仅中国目前每年的新增装机数就超过500台。近三年来，国际上ICP?MS 的主要生产商推出了若干型号的四极杆式ICP-MS，如Agilent在2012年推出的8800型号、2014年推出的 7900型号，PerkinElmer于2014年推出的Nexion350系列型号、ThermoFisher于2012年推出的iCap-Q系列型号， 2014年德国耶拿完成对布鲁克ICP-MS生产线的收购，并于今年2月推出的PlasmaQuant系列型号，而我国钢研纳克推出了国产ICP-MS PlasmaMS

300 。

四极杆ICP-MS的基本结构由进样系统、离子源、锥及离子透镜、四极杆分析器、真空系统和检测器等硬件部

分组成（部分型号还包括用以消除干扰的反应池部分），此外还包括用于冷却系统、气体管路、仪器控制和数据 分析系统等支撑辅助部分。下面我们按照ICP-MS的每一个结构部分，看近年来的技术进展。

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