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真空镀膜

真空镀膜是指在高真空的条件下加热金属或非金属材料，使其蒸发并凝结于镀件（金属、半导体或绝缘体）表面而形成薄膜的一种方法。例如，真空镀铝、真空镀铬等。

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真空镀膜优点

2.由于该种设备采用了迥异于批量式镀金属法中常采用的多个分开的短形金属蒸发舟皿式柑祸的长型整体式增祸;因此蒸镀在被镀条状材的金属膜层上和前者相比在相同蒸发条件下所镀积的厚度较均匀。

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真空镀膜开发成功

为此，诸如美国和日本等1先采用镀金属工艺以制造镀铝纸和镀铝薄膜的国家近年来开发成一种设备较复杂、庞大的具有涂覆粘结剂(在直接法中用之)和脱离层和(或)着色层(在转移法中用之)的增粘涂布机或预处理装置;镀金属装置;开卷装置和收卷装置等部分所组成的生产线。其中主要特点为开卷、收卷装置设置于镀金属炉之外，原料卷筒材料(纸或塑料薄膜)的更换、增添以及成品收卷后的取下等均在真空镀金属炉的在大气压下进行。无论生产多少卷成品材料，并不影响作为主要设备的真空镀金属炉在恒定真空中的连续生 产。供蒸发、蒸镀用的金属丝〔一般为铝丝)亦是根据与蒸镀厚度所需的消耗量相平衡而自己进给。

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