等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。
等离子抛光的条件
等离子要运用在抛光上面是需要具备一定的条件才可以做抛光的，首先要产生等离子必须要有电场存在、换句通俗的话来说要有电源存在还要有被离化的物质，在抛光邻域被离化的物质就是我们的抛光盐，等离子抛光盐是个关键的介质、它也要具备两个条件，一被离化成离子轰击产品表面、二离化的酸根离子要能跟产品表面发生微反应，且是正向的作用、至少不能是负作用，只有这样才能得到等离子抛光的功效。
随着制造业的快速发展，如何提高生产效率和产品品质已成为各大企业面临的重要问题。而等离子抛光技术的出现，正是解决这一问题的重要突破。相较于传统的机械抛光，等离子抛光技术具有精度高而且效率快、适用范围广等优点。它可以用于各种材质的表面处理，如不锈钢、铜、镁合金等等。同时，该技术也可以满足制造领域对于表面精度和光洁度的要求。等离子抛光技术是一种基于等离子体原理的表面处理技术。它利用离子放电原理，通过高速电子束的轰击和化学反应，使样件表面微观凸起的位置材料优先去除，从而实现表面的微观整平。在一定条件下，该技术可以达到非常高的抛光精度和光洁度，具有重要的应用价值。效率：一般金属工件，每次抛光时间在3-5分钟，根据工件尺寸，每次抛光的数量不一样，越小的工件，每次可以抛光的数量越多。
