半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，废水处理设备厂家，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

 化工废水处理设备中有机污染物和氨氮的去除主要取决于设备中的AO生物处理过程。 工作原理在A1级。由于污水中有机物浓度高，微生物处于缺氧状态。 此时，微生物是兼性微生物。 因此，A1级池不仅具有一定的有机物去除功能，而且还降低了后续好氧池的有机负荷。 有机物浓度降低，但仍存在一定量的有机物和较高的NH3-N。  为了进一步氧化和分解有机物质，同时硝化作用可以在碳化下顺利进行，并且具有较低有机负荷的好氧生物接触氧化槽设置在O阶段。  O级池中主要有好氧微生物和自氧化细菌（硝化细菌）。 其中，好氧微生物将有机物分解为CO2和H2O。

工业废水处理设备具有很高的自动化程度。 根据污水质量设计的工业废水处理设备不需要专门的技术人员进行操作。 经过对企业原始员工的简单培训，即可成为兼职管理人员，从而节省人工成本。  即使公司没有足够的土地面积来建设污水处理设施，也可以将工业废水处理设备掩埋并安装在停车位和绿化带中。工业废水处理设备埋藏后，设备被土壤覆盖，可以进行绿化，表面硬化处理，并可作为停车场重新使用，以解决占地面积问题。

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