等离子纳米抛光是什么？

等离子纳米抛光是一种全新的金属表面处理工艺——仅在工件表面的分子层与等离子反应，分子中原子一般间距为0.1-0.3纳米，处理深度为0.3-1.5纳米。抛光物的表面粗糙度在1mm范围内，因此等离子纳米抛光处理可以化学活化工件表面，去除表面分子污染层，交叉链接表面在化学物质。等离子也称为物质的第四态，是一种电磁气态放电现象，使气态粒子部分电离，这种被电离的气体包括原子、分子、原子团、离子和电子。等离子就是在高温高压下，抛光剂水溶，但是在高温高压下，电子会脱离原子核而跑出来，原子核就形成了一个带正点的离子，当这些离子达到一定数量的时候可以成为等离子态，等离子态能量很大，当这些等离子和要抛光的物体摩擦时，顷刻间会使物体达到表面光亮的效果。

铜等离子抛光的成本高吗？

通风等离子抛光的成本主要体现在用水、用电、挂具损耗和抛光盐损耗上面，铜等离子抛光、抛光时间长短和工件自身大小直接决定成本高低：抛光时间长、抛光效果一定好、但通电时间也会延长、耗电量相增加、挂具因为延长时间也会增加损耗、抛光盐也会因为时间延长失效也会提前、在用水上面也会增加，在这些成本中电费成本是成本。综上所述铜等离子抛光成本要控制到合理的方法是只要的达到要求、抛光时间，考虑到成本还可以结合手抛光或者机械抛光做铜等离子抛光的预处理、把抛光去除量多的交给预处理完成、这样省时省力才能把成本做到。

随着半导体工艺的不断发展，对半导体表面平整度和光泽度的要求越来越高，传统的机械抛光技术已经不能满足需求。铜合金自动抛光设备作为一种新兴的表面处理技术，具有、、无污染等优点，在半导体行业中的应用前景广阔。铜合金自动抛光设备不仅可以用于晶圆的表面抛光和去除氧化物，还可以用于半导体器件的表面平整化和去除残留物等方面，具有重要的应用价值。

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