等离子抛光的三个主要优点是成本更低，该过程更环保，并且具有该技术独有的表面下损伤去除效果。等离子抛光晶圆与CMP晶圆比较而言，一直到二极管和MOSFET器件生成，完整的晶圆电气性能和良率结果已经与CMP相当（图1）。

等离子抛光剂不使用消耗性有毒浆料，因此避免了相关的处置问题和高用水量，桥头等离子抛光，消除这些工艺要求可以将运营成本降低多达85%。此外，该步骤上游的材料要求不需要改变，之后的工艺也看不到等离子抛光晶圆和CMP晶圆之间的差异。

等离子抛光

等离子抛光技术的简介及应用

等离子抛光技术，又称电浆抛光，是一种利用高能等离子体与材料表面相互作用进行表面处理的方法。它通过将气体（如气、氧气或混合气体）在高频电场中电离，形成具有极高能量的等离子体束，等离子抛光厂家，对工件表面进行侵蚀和磨蚀，等离子抛光价格，从而实现精细抛光的效果。该技术具有高精度、边、表面质量好、适用范围广等特点，常用于精密零件制造、电子工业、设备、珠宝加工等领域，尤其在需要高光洁度或无损伤抛光的场合，等离子抛光厂商，。例如，手机屏幕、表面、硬质合金刀具等都广泛应用了等离子抛光技术。

电解质-等离子抛光过程

将被抛光的金属挂件放在挂具上作为阳极沉入低浓度的中性盐配置的抛光液中，抛光液及抛光槽与阴极相连。

在工件进入抛光液的过和中，抛光液电解产生的气体和工件与抛光液接触的瞬时知路所蒸发的水蒸气会形成一个包围工件的气层，将工件与抛光液完全隔开。由于微观凸起的位置形成放电通道，将这些位置的材料支除，从而实现对工件的抛光。

等离子抛光设备主要用于抛光几何形状复杂的不锈钢制品表面。其机理是在液体施加的电极周围形成相对稳定的等离子体场，通过等离子体场中的离子与游离的中性原子之间的交换实现物体的表面分辨。由于物体的表面形貌，突出部分具有较高的血浆浓度，使其快速剥离，直至达到相对平坦的状态。因为等离子场包围了物体的整个表面，所以物体的所有部分都可以被相应地抛光。

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