各种类型的溅射薄膜材料在半导体集成电路(VLSI)、光碟、平面显示器以及工件的表面涂层等方面都得到了广泛的应用。20世纪90年代以来，溅射靶材及溅射技术的同步发展，极大地满足了各种新型电子元器件发展的需求。例如，在半导体集成电路制造过程中，以电阻率较低的铜导体薄膜代替铝膜布线。

在被溅射的靶极（阴极）与阳极之间加一个正交磁场和电场，在高真空室中充入所需要的惰性气体（通常为Ar气），哪里有1N金靶材，磁铁在靶材料表面形成250～350高斯的磁场，哪家有金1N金靶材，同高压电场组成正交电磁场。

以含有氯原子的表橡胶为代表的橡胶组分，用于导电橡胶辊，以允许导电橡胶辊呈离子导电性。该情况下，1N金靶材厂家，含有氯原子的橡胶组分具有较高的表面自由能。因此，含有氯原子的橡胶组分容易粘附于色粉和用于色粉的添加剂上。当含有氯原子的橡胶组分与离子导电的单体聚合时，导电辊具有较高的表面自由能并且容易弄湿。因此粘附于导电橡胶辊的色粉量变得较高。当通过用紫外线照射其表面或者使其暴露于臭氧中，使导电橡胶辊的表面上形成氧化膜时，1N金靶材，导电橡胶辊表面的氧浓度变得较高。

任何金属都不能达到纯。“超纯”具有相对的含义，是指技术上达到的标准。

由于技术的发展，也常使 “超纯”的标准升级。“超纯”的相对名词是指“杂质”，广义的杂质是指化学杂质（元素）及“物理杂质”（晶体缺陷），后者是指位错及空位等，而化学杂质是指基体以外的原子以代位或填隙等形式掺入。

但只当金属纯度达到很高的标准时（如纯度9以上的金属），物理杂质的概念才是有意义的，因此目前工业生产的金属仍是以化学杂质的含量作为标准，即以金属中杂质总含量为百万分之几表示。

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