电离室的数目

脉冲的变化率取决于漂移速度。电子的漂移速度约比正离子大三个量级，这就决定了在t≤x0/v-时间内，矩阵电离室，脉冲前沿主要是电子脉冲的贡献。它构成脉冲的快成份，矩阵电离室厂家，幅度与电离产生的地点有关。在x0/v-≤t -≤(d-x0)/v+时间内，主要是离子脉冲的贡献，矩阵电离室多少钱，这是脉冲的慢成分。但是输出的电压幅度只决定于原电离的总数目，与电离产生的地点无关。

电离室离子复合

在脉冲式辐射场中，Ks的推导建议使用双电压法。这里需要假定剂量仪读数（M）和所使用的偏压（V）之间存在线性关系。M1和M2分别是偏压为V1和V2的剂量仪读数。其中，V1是常用偏压，V2小于V1，一般V1/v2≥3。此时，矩阵电离室哪家好，常压V1时的复合效应表达式为：

Ks=a0+a1（M1/M2）+a2（M1/M2）2注意：因为Ks与剂量率相关，故测定时，应使用剂量率。

电离室剂量基准

国际度量衡局（BIPM）推动多边相互承认协定（MRA），透过国际度量衡会（CIPM）或各区域计量组织举办的国际量测比对活动，才能不断提高测量的准确度，并促进剂量测量的量值的国际统一，达到各国计量标准相互认可的目的。目前已有三类基本方法用来作为测量伽马射线水吸收剂量标准测量方法，作为Primary standard (原级标准)

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