ZL205A微弧氧化膜层耐蚀性能研究

利用硅酸盐复合电解液体系，微弧氧化电源，在ZL205A上采用微弧氧化法制备膜层。

所用的工艺参数为：恒流控制，电流密度3 A/dm^2，微弧氧化电源指标，频率500 Hz，终止电压450 V。利用扫描电镜对该膜层的形貌及结构进行分析；对膜层的化学成分进行分析；采用极化曲线评价膜层的耐蚀性。

结果表明：所制备的微弧氧化膜层能提高ZL205A的耐蚀性。

微弧氧化技术特点

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，小型微弧氧化电源价格，摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，高频微弧氧化电源，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。

微弧氧化工艺流程

1、预处理

预处理的原因是由于铝、铁等合金长时间放置在空气中，表面易发生氧化，生成一层几个微米的钝化膜，同时，其表面又极易吸附周围环境中的杂质，形成表面吸附层。为保证微弧氧化后制得陶瓷膜的综合力学性能，在微弧氧化处理前要对试样表面进行预处理。

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