微弧氧化技术特点

1. 提高材料表面硬度

微弧氧化膜层为表面多孔（孔径为几微米）、内部致密的陶瓷层。膜层硬度高（维氏硬度可由几百至三千左右） 膜层与基体为冶金结合、厚度在几微米至几百微米之间。

2. 高耐磨性

用WC做摩擦副，摩擦率为4.9*10 -7mm3/Nm，镁合金微弧氧化加工厂，摩擦系数0.48 提高50倍左右。

3. 高耐蚀性

耐中性盐雾腐蚀（按）≥400h ，可做至≥800h膜层无明显腐蚀。

在硅酸盐体系中分别添加三氧化钼和钼酸钠，对AZ91D镁合金进行微弧氧化处理，镁合金微弧氧化黑色膜，对比研究钼质量浓度相同的三氧化钼和钼酸钠对微弧氧化膜耐蚀性的影响。通过TT260涂层测厚仪、SEM和XRD分别检测膜层厚度、表面形貌和物相组成。采用点滴和电化学实验研究膜层的耐蚀性。

结果表明：电解液中加入钼质量浓度相同的MoO3和Na2MoO4后，膜层点滴耐蚀性均有所降低，但电化学耐蚀性均增加，且二者添加量均为少时膜层耐蚀性更佳。

微弧氧化材料表面陶瓷化机理

微弧氧化是一种在高电压、大电流下对金属材料进行表面处理的技术。由于采用了较高的电压(大于250 V)，铝镁合金微弧氧化，在微弧氧化处理过程中，可在样品材料表面观察到光斑(弧光)现象。光斑十分细小，镁合金微弧氧化，密度很大，且无固定位置。这种细小的光斑意味着在样品材料表面形成了大量的等离子体微区，在微区内瞬间温度可达2500℃以上，压力可达数百个大气压，为上面提到的一系列化学、物理反应的进行创造了条件。利用这一环境可在材料表面生成具有一定厚度、致密的陶瓷氧化层，可用来改善材料自身的防腐、耐磨和电绝缘等特性。

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