微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，实质上是一种高压的阳极氧化，是一种新型的金属表面处理技术。该工艺是在适当的脉冲电参数和电解液条件下，使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象，阳极上原有的氧化物瞬间熔化，同时又受电解液冷却作用， 进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。

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微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，因为从生成物来看，微弧氧化电源报价，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，微弧氧化电源，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，表面处理微弧氧化电源，对膜层整体性能不利。

因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，微弧氧化电源原理图，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。

镁合金微弧氧化膜层性能检测

镁合金微弧氧化膜层性能检测主要从以下几个方面进行：外观检测、厚度测定、硬度测定、表面处理层与基体结合力、耐蚀性能评价以及耐磨性测定等。经微弧氧化后，借助天然散色光或在日光下目测检验，观察氧化层的孔隙大小、色泽均匀程度、有没有斑点、脱皮等现象。

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