微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积，微弧氧化技术设备，前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平，八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用，手机壳微弧氧化技术，九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。

微弧氧化膜层形貌

截面：微弧氧化陶瓷层与基体以冶金型微熔过渡区连接。 其组织致密无穿孔，微弧氧化技术，且与基体成明显的微冶金型结合 。此类组织特征大大增强了陶瓷层对基体的防腐蚀保护能力。

表面： 盲孔微区分布 均匀，利于减摩条件下连续油膜的形成，改善润滑条件，降低摩擦系数，延长使用寿命。对用于制取防腐保护涂层的产品，此类表面状态利于进行封孔或喷粉等后续处理，增强其附着力。

微弧氧化电源可存储或调用多套工艺参数，自动化程度高，可大幅度提高工件阳极氧化膜层的硬度和氧化膜层的耐蚀性、致密性。可广泛作为航空、航天、器械、船舶等。民用企业以及科研院所、国家重点材料实验室、大专院校的材料学院对铝、铝合金、镁合金、钛合金材料的微弧氧化。微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化工艺、微弧氧化电源、微弧氧化厂家

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