UV真空电镀的原理和种类：真空蒸镀:是将工件装入电镀机内，高反射反光杯配光，然后将室内空气抽走，达到一定的真空度后，将室内的钨丝通电加热．当达到一定的温度后，钨丝上所放置的金属丝气化，然后随着室内工件的转动均匀的沉积在工件表面，形成金属膜．　一般常见的电镀用金属有铝．镍．铜等等，但由于熔点．工艺控制等方面的原因，镀铝成为 的做法．

真空溅镀：主要利用辉光放电glowdischarge将ya气Ar离子撞击靶材target表面，靶材的原子被弹出而堆积在基板表面形成薄膜。溅镀薄膜的性质、均匀度都比蒸镀薄膜来的好，但是镀膜速度却比蒸镀慢很多。新型的溅镀设备几乎都使用强力磁铁将电子成螺旋状运动以加速靶材周围的ya气离子化，造成靶与ya气离子间的撞击机率增加，提高溅镀速率。

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