曝光显影工艺-江苏迪盛微电子科技





直接成像

DI印刷技术的研发已经有十几年的历史了,早出现的DI印刷机是海德堡公司在Drupa95展览会上推出的Quickmaster46-4DI印刷机,它在当年的Drupa展览会上引起了不小的轰动,对Indigo和 Xeikon公司的数字彩色印刷机的销量有很大的造成了一定的冲击。此後的几年,相继有一些公司加入DI印刷机的市场中,其中包括Adast公司的B2幅面DI印刷机,Quickmaster和Adast印刷机均应用来自Presstek公司的成像技术和印版。後来海德堡公司又在他们的 Speedmaster74印刷机上加入Creo公司的成像头开发出Speedmaster74B2幅面的DI印刷机。刚开始的时候,这款印刷机只能在 Presstek印版上成像,後来Agfa公司为它专门设计了一种Thermolite印版。Karat印刷公司那时还是KBA和Scitex公司的合资企业,推出了利用Scitex成像头的74Karat设备,与他们的Lotem制版机一样,但终是在Presstek印版上成像。


    迪盛智能拥有在激光直接成像领域已经沉淀了多年的技术团队,从成立之初我们就决心走稳重持久的发展路线,不仅要做指标达标的设备,还要做的设备,因此我们的团队从相对比较简单的激光晒网机开始研发、制造、改善,经过几年的积累,我们的软件、硬件均取得非凡的成就,数据处理、数据传输、分图、电子控制、控制板卡、激光器、光学镜头等均实现自制或自行设计。




LDI机

LDI曝光速度的瓶颈因素包括:数据的储存与传送、镭射能量、切换速度、多边型的制作速度、光阻的感光度、镭射头移动速度、电路板传送作业模式等。

以基本的影响因素而言,有三个独立的因子会影响曝光速率:

1、能量密度   2、数据调变的速度   3、机械机构速度

光阻必须要有一定量的能量送到表面才能产生适当的曝光,而高敏度的光阻需要的能量相对较低。因为总能量等于功率乘上时间,曝光显影工艺,高敏度的感光膜在同样的功率下所需的曝光时间就比较短。而曝光系统的功能输出,主要来自于系统的光源设计,所以这是能量与时间的关系与解析度无关。




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