微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，微弧氧化电源，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，微弧氧化电源价格，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，若时间足够长，微弧氧化电源原理，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固， 且工艺简单，对环境污染小， 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究， 在工业上得到了一定的应用， 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。

微弧氧化除了所需电功率较大之外，微弧氧化工艺实际上并不算复杂，所使用的gui酸盐、磷酸盐、硼酸盐等电解质是环保无毒的，微弧氧化电源使用方法，对铝材的要求也不高，不管是 6000系的航空级铝材，还是难以阳极氧化的含铜、含gui铝材都可以进行微弧氧化，并且能得到理想的陶瓷结晶层。微弧氧化在处理过程中会自动对制品表面进行抛光处理，一些粗糙的制品表面可以修复得平整光滑，在一定程度上也节省了后期成本。

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