微弧氧化的起源

微弧氧化(MAO)是一种在轻金属表面原位生长陶瓷氧化膜的新技术。美国五十年代在某些兵工厂开始研究阳极火花沉积，前苏联从七十年代中期开始独立研究微弧氧化且具较高水平，微弧氧化技术实验，八十年代中、后期以来微弧氧化研究已成为国际研究热点并开始应用，九十年代初国内开始起步。微弧氧化在航空、航天、机械、电子、装饰等领域有广泛应用前景。

日照微弧氧化技术有限公司为你您讲解微弧氧化先关内容。微弧氧化多孔层可作为顶漆的携带层，这样既可满足必要的硬度和负载要求，又可作为基体金属的一个强有力的防护屏障，微弧氧化技术 参数，同时还保证表面复合物材料对于基体良好的粘合性。另外，微弧氧化技术设备，也可用PVD、CVD和溶胶凝胶等对微弧氧化膜层进行封孔处理，提高膜层的致密度和表面光洁度。

微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，微弧氧化技术，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。

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