与普通的阳极氧化膜相比， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，镁合金微弧氧化加工厂，与基质结合紧密，镁合金微弧氧化表面要求， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固，镁合金微弧氧化黑色膜， 且工艺简单，对环境污染小， 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究， 在工业上得到了一定的应用， 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。

阳极氧化膜层与微弧氧化膜层的区别是什么？

由微弧氧化膜层的生长机理可知，阳极氧化是微弧氧化的初级阶段。阳极氧化发生的是化学反应，而微弧氧化除化学反应外，还伴随有电化学、高温等离子体等反应。其膜层由于是在高温下生成（瞬间高温度超过3K摄氏度），膜层与基体间为冶金结合，因此与基体结合良好。另外，膜层为氧化物瞬间冷凝形成，具有较高的致密度和硬度以及良好的耐腐蚀性能，良好的绝缘性等。但归跟到底，微弧氧化膜层与阳极氧化膜层醉的的差别在于：膜与基体的结合力，膜层内部致密性及相结构。这几种差别引起了微弧氧化膜层与阳极氧化膜层其它方面的性能差异。

微弧氧化技术又称微等离子体氧化或阳极火花沉积，实质上是一种高压的阳极氧化，镁合金微弧氧化，是一种新型的金属表面处理技术。该工艺是在适当的脉冲电参数和电解液条件下，使阳极表面产生微区等离子弧光放电现象，阳极上原有的氧化物瞬间熔化，同时又受电解液冷却作用， 进而在金属表面原位生长出陶瓷质氧化膜的过程。

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