微弧氧化工艺的整流电源特点：

操作方式:本控远控操作模式可选择;

输出控制方式:直流、单极脉冲或双极脉冲输出控制模式可选择

恒流恒压、恒功率三种控制模式可选择

软启动时间:软启动工作时间可在0-2005范围内整定

整流方式:IGBT逆变软开关整流，镁合金微弧氧化加工，PWM脉冲步调制IGBT斩波

脉冲步调频率范围:1000-8000Hz;

人机操作界面:PLC彩色触摸屏

主控制器：微弧氧化电源DSP微机数字触发控制，PWM脉宽调节控制，脉冲移相分辨率≤1μ。

与普通的阳极氧化膜相比，镁合金微弧氧化技术， 微弧氧化膜的空隙小，空隙率低，与基质结合紧密， 且在耐蚀、耐磨性能等方面得到了很大的提高。微弧氧化技术生成的膜层综合性能优良，与基体结合牢固， 且工艺简单，对环境污染小， 目前对其生长规律、生长机理和影响因素等已经有了较为深入的研究， 在工业上得到了一定的应用， 是一种具有发展潜力的镁合金表面处理技术。微弧氧化技术在现代工业中应用汇越来越广泛。

微弧氧化的发展方向

在工业应用的范围内，微弧氧化氧化工艺在下面几个方向的发展是值得关注的：

①标准电解质的商业化及各种型号与系列电源的深化，镁合金微弧氧化，并且通过复配电解质而扩展阀金属的范围，从而使微弧氧化的应用范围扩大；

②通过神经网络及相应的质量控制模型对微弧氧化工艺进行优化，工艺的改进（比如鼓入气泡以及超声波震动）；

③ 微弧氧化与其它技术的复合应用。微弧氧化电源

镁合金微弧氧化技术-镁合金微弧氧化-日照微弧由日照微弧技术有限公司提供。镁合金微弧氧化技术-镁合金微弧氧化-日照微弧是日照微弧技术有限公司今年新升级推出的，以上图片仅供参考，请您拨打本页面或图片上的联系电话，索取联系人：赵先生。