微弧氧化时间对表莫粗糙度的影响

微弧氧化陶瓷膜的表面粗糙度随着氧化时间的延长近似呈线性增长。这是由于氧化膜的表面粗糙度与膜层的厚度有直接关系，而膜层的增厚过程是在极高的能量条件下陶瓷膜的重复击穿过程。在氧化初期，作用在膜层上的能量较低，微弧氧化技术，产生的熔融物颗粒较少，膜层的表面粗糙度较低；随着时间的延长，膜层表面的能量密度逐渐增大，熔融的氧化产物增多，并通过微孔喷射到表面。在电解液液淬作用下，氧化物冷却凝固，并发生多次击穿。在这种熔融、凝固、再熔融、再凝固的过程中，产生的氧化物颗粒黏附在陶瓷层表面的数量增多，等离子微弧氧化技术，从而增大了膜层表面的粗糙度。另外，在成膜过程中同时存在氧化膜的溶解过程，因此，低电压微弧氧化技术，若时间足够长，膜层在溶解过程中其表面粗糙度也会出现小幅度的下降。

微弧氧化处理是一种在有色金属表面原位生长氧化物陶瓷的新技术，具有与基体金属结合力强、硬度高、耐腐蚀、耐磨损、耐热冲击等优点，是非常有前途的轻合金表面处理方法。在镁合金工程应用中，微弧氧化技术要求，主要从提高镁合金纯度或研究新合金、表面处理或涂层、采用快速凝固工艺和表面改性等4个方面进行腐蚀防护。其中，微弧氧化表面处理形成保护膜是提高Mg及镁合金材料抗蚀性非常重要有效的方法。

微弧氧化技术的突特性 

微弧氧化瓷器技术是这种在铝、镁、钛等轻金属铝合金表面原点生长发育瓷器层的高新科技。微弧氧化技术的运用大幅地提升了原材料的表面硬度，可与钨钢相提并论，大大的超出调质处理后的高碳钢、高合金钢和高速工具钢的硬度；微弧氧化解决的轻金属表面产生一层层膜，具备非常好的耐磨损抗腐蚀的特性。微弧氧化技术、微弧氧化电源、微弧氧化生产线、微弧氧化

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