微弧氧化电源使用方法-微弧氧化电源-日照微弧(查看)

微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度?

一般来讲,微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层,膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如,一般情况下,铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性,因为从生成物来看,氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁,微弧氧化电源使用,铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取,如单纯提高膜层的硬度,可能需提高膜层厚度,降低膜基结合力,对膜层整体性能不利。

因此,一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求,微弧氧化电源,可以提出,整体加以调制,在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如,某镁合金需要耐蚀,可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制,满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。








微弧氧化技术特点

(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达  109-12Ω



微弧氧化是利用弧光放电增强并在阳极上发生的反应,微弧氧化电源原理图,微弧氧化电源、从而在以铝、钛、镁等金属及其合金为材料的工件表面形成的强化陶瓷膜的方法,微弧氧化电源使用方法,在轻金属表面形成一层氧化膜,具有一定的耐磨耐腐蚀的作用。微弧氧化生产线、在高温、电场等因素的作用下,微弧氧化技术。

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