实验微弧氧化电源-微弧氧化电源-日照微弧(查看)

微弧氧化处理技术的优势

选用微弧氧化技术对铝以及合金制品开展表面加强解决,具备加工工艺全过程简易,占地小,微弧氧化电源,解决能力强,微弧氧化电源用途,生产制造率,适用大工业化生产等优势。微弧氧化解决后的铝基表面陶瓷膜层具备强度高,实验微弧氧化电源,耐蚀性强,小型微弧氧化电源,介电强度好,膜层与肌底金属材料结合性强,并具备非常好的耐磨损和耐高温冲击性等性能。

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微弧氧化技术特点

(1)氧化膜具有陶瓷结构特征。

(2)原位生长。

(3)氧化膜均匀增厚。

(4)无污染:无环保限制元素加入,基本无废水排放。

制备工艺简单。

(5)表面硬度高,显微硬度在400至1500HV;

(6)耐磨损性能与硬质合金相当;

(7)耐腐蚀性能:盐雾试验铝合金1000-2000小时 ;镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

(8)耐热性能:300℃水中淬火35次未见变化,1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

(9)绝缘性能:膜厚不同,表面电阻达  109-12Ω



微弧氧化膜具有特殊的多孔质结构,使得它在金属材料功能化方面有着巨大的应用潜力,如在微弧氧化膜的细孔中填充润滑性物质,可以作为性能优良的减摩抗磨材料。影响微弧氧化膜生长和性能的因素很多,有待于系统而深入地研究,以弄清楚各因素对膜性能的影响规律,使得不同性能要求下的微弧氧化工艺更具有可重现性。 微弧氧化电源、微弧氧化技术、微弧氧化生产线



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