微弧氧化膜层的性能能够达到何种程度？

一般来讲，微弧氧化膜层是瞬间高温下生成的内部致密的陶瓷层，膜层均具有良好的膜基结合力、硬度、耐磨耐腐蚀特性、高的绝缘性及耐高温氧化性能等。但是不同材料不同溶液不同工艺下制备的膜层性能也有差异。如，一般情况下，铝微弧氧化加工，铝表面制备的膜层比镁合金表面制备的膜层具有更高的硬度和耐磨性，因为从生成物来看，氧化铝硬度及耐磨性均高于氧化镁，铝表面氧化膜硬度高可以达到HV3000。但是通常单纯考虑这种极限性能并不可取，如单纯提高膜层的硬度，表面微弧氧化加工，可能需提高膜层厚度，降低膜基结合力，对膜层整体性能不利。

因此，一般很少单独强调某种性能。只是如果有特殊要求，可以提出，微弧氧化加工，整体加以调制，在满足特殊需求的基础上使膜层整体具有良好性能。如，某镁合金需要耐蚀，可以根据需求对膜层厚度、溶液成分等进行调制，满足耐蚀400小时、600小时等特殊需求。

1、阳极氧化膜厚不足。解决的办法是检查阳极氧化工艺是否规范，微弧氧化设备加工，看温度，电压，导电等因素是否稳定，若有异常，请相应调整规范之，若无异常，可适当延长氧化时间，保证膜厚达标。

2、染液pH值太高，此时，可用冰醋酸将pH值调至规范值。

3、导电不良。可能阳极铜杆或阴极铅板接触不良所示批量导电不良。注意清洗阳极铜杆及阴极铅板，保证接触良好。

微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。

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