曝光

曝光是指将涂有感光层的PS版置于晒版机工作台上，放好底片，通过曝光 获得一种潜在或可见图像的过程。曝光是一切光化学成像方法的基本过程与主要特征。曝光，曝光模式即计算机采用自然光源的模式，通常分为多种，手动曝光、AE锁等模式。照片的好坏与曝光有关，曲面玻璃曝光机，也就是说应该通多少的光线使CCD能够得到清晰的图像。曝光量由通光时间（快门速度决定），通光面积（光圈大小）决定。

晒版机（曝光机）的工作原理及操作步骤

晒版机是用于制作印版的一种接触曝光成像设备。

（1）晒版机对光源的要求：首先应根据PS版的感光特性来选择光源，PS版的感光范围一般在280-450nm，因粘贴胶片的片基和晒版机玻璃对320nm波长以下的光具有较强烈的吸收作用。因此320nm以下波长的光对PS版感光层起不到感光效能，感光性能较好的PS版将感光范围定在320-450nm波长范围内；碘jia灯是当今通用且的光源，其波长分布在350-450nm范围内，对多数晒版感光层有效。这种光源有较强的辐射热，因此晒版机应具备良好的散热装置。

激光直接成像的优点

　质量的改善具有以下优点;

1)消除了胶片和印制缺陷;

2) 在激光成像系统中，钧迪智能科技，消除或减少了使用的受控环境中温度和湿度对产品的影响。除了节省费用和质量改进之外，3D曲面玻璃曝光机，激光直接成像还有许多技术优势，详述如下:

1)分辨率:由于激光光点直径小，所以激光直接成像系统改进了分辨率，很容易就可以达到50μm 的性能。随着方法的优化，在40μm 的抗蚀剂中生产35μm 的精细线已成为可能。

将来随着激光直接成像系统进一步改进，可能会实现25μm 的精细线和间距。

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