微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，铝合金微弧氧化表面，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，铝合金微弧氧化，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。

微弧氧化的陶瓷膜较阳极氧化膜在防腐蚀、耐磨性、电绝缘性和装饰性等方面都有明显的改善和提高，但并不意味着微弧氧化就属于市场的专有产物。事实上，微弧氧化正体现出非常明显的普及趋势。微弧氧化由于具有工艺简单、占地面积小、、效果强、适合规模生产，铝合金微弧氧化生产线，又对环境污染小，因此目前在诸多行业都处于蓬勃发展的时期。可以预见在未来的轻金属领域，微弧氧化工艺也将会迎来大规模应用的时代。微弧氧化生产线、微弧氧化技术、微弧氧化电源

微弧氧化膜的优势

微弧氧化膜与普通阳极氧化膜相比， 这种膜的空隙率大大降低，从而使耐蚀性和耐磨性有了较大提高。目前，微弧氧化技术主要应用于Al、Mg、Ti 等有色金属或其合金的表面处理中。镁合金微弧氧化技术所形成的氧化膜主要由MgO 和MgAl2 O4 尖晶石相组成，总膜厚可达100 Lm以上， 具有明显的三层结构: 外部的疏松层、中间的致密层和内部的结合层。

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