半导体污水分为三大类：含氟废水、有机废水和金属离子废水。

为了除去污水中COD、氨氮、总氮等有机污染物，一般会采用好氧法和缺氧厌氧法相结合的方法进行处理。

　　金属离子污水则是根据不同的金属离子采用不同的方法，常见的方法有活性炭吸附法、化学沉降法、去离子交换法等。

　　对于含氟废水，主要是往污水中加入钙盐，钙盐可以跟水中氟离子形成CaF2，再加上混凝剂辅助就可以去除污水中的氟离子，这就是常说的化学沉降法。

　　因电子半导体行业的用水率高，所以为了降低用水成本、减少对环境的污染，污水回用对于电子半导体行业的经营者是极其重要的。

　　半导体污水除了除了以上方法以外，废水处理设备厂家，还可以对污水进行电渗析、离子交换树脂、吸附、冷冻等，在进行污水处理期间还可以去除一些杂质以及特殊的气味。

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生物膜形成的效果不明显：此时，应检查地埋式污水处理设备的曝气是否存在不均匀的失效。 如果爆1炸正常，可考虑向微生物中添加一些营养素; 曝气不均匀：在这种情况下，首先检查曝气风扇的阀门是否异常，曝气头是否已损坏。  不合格的出水水质：如果地埋式污水处理设备的水质不合格，检查进水量是否过大，曝气是否不均匀，沉淀池内的污泥是否清洗，消毒设备是否正常运行 通常，以及污水是否被消毒。

在工业废水处理设备建设之前，应基本完成相应的土建工程。 当安装工程须与土建工程协调时，应完成相关的设备基础，地板和管道沟，混凝土的强度不应低。 在75％的设计强度下，应移除施工现场附近的建筑材料和碎片。  工业废水处理设备以建筑物结构为临时起重支点时，应对结构承载力进行必要的计算，并征得设计部门的同意; 工业废水处理设备安装工程施工前应有设计施工图纸或设备技术文件。 并合理安排临时运输道路，水源，电源，照明等设施，主要材料和机械，劳务。

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