微弧氧化技术的发展

微弧氧化技术是北京师范大学核科学与技术学院（低能核物理研究所）（北京市辐射中心）1992年起开发的科研课题，微弧氧化电源类型，先后得到国家教委、国家九五863高技术研究发展计划、国家自然科学基jin的大力支持。1997-1998年完成国家“863”计划项目“等离子体微弧氧化表面改性技术”，1997年12月“铝合金微弧氧化技术”通过国家教委和863组的联合鉴定。2002年微弧氧化设备获得国家重点新产品证书，2004年微弧氧化双极性大功率脉冲电源获得发明。

微弧氧化技术特点

（1）氧化膜具有陶瓷结构特征。

（2）原位生长。

（3）氧化膜均匀增厚。

（4）无污染：无环保限制元素加入，基本无废水排放。

制备工艺简单。

（5）表面硬度高，实验室微弧氧化电源，显微硬度在400至1500HV；

（6）耐磨损性能与硬质合金相当；

（7）耐腐蚀性能：盐雾试验铝合金1000－2000小时 ；镁

合金经封孔后耐盐雾可达1000小时以上。

（8）耐热性能：300℃水中淬火35次未见变化，1300℃

冲击5次不脱落、不龟裂。

（9）绝缘性能：膜厚不同，微弧氧化电源，表面电阻达  109－12Ω

微弧氧化是一种金属表面阴阳极放电的现象。我们平时见到的电焊是一种大的电弧，把一平方厘米的电弧分解成一平方微米的小的弧点，钛合金微弧氧化电源，就可以称为微弧。一平方厘米电弧可以分解出来10亿个以上的小弧斑，再把弧的开断时间控制在百万分之一秒内，这个小弧斑可以在物质表面形成融溶喷射现象。这种现象在物体的阳极和阴极会有不同的物理特性，我们利用这种特性就可以进行金属表面镀膜、抛光等精密处理。

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