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1J30 软磁合金-昆山市禄之发电子-通辽软磁合金
除去赤金、银箔外,还有铜、铝箔,用以代替金银色。加工时均是在用树脂或蜡类浸过的透明纸基上,涂一层树脂粘料,1J30 软磁合金,并在上面涂撒预先磨碎的铜或、再用辊子将其压均匀,经干燥后制成。铜、铝箔不适用延展方式,且易氧化,1J85 软磁合金,所以很少使用。其包装形式与相同。有电化铝箔后,铜铝箔已不再使用了。近代制取金属箔的方法有锻打法,真空蒸镀法、粉末轧制法、电解法和压延法等,但大规模生产仍以压延法和电解法为主。压延法以生产铝,箔为代表,因其用途非常广泛故发展极其迅速,已形成一门独立的加工工业。
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四十年代后期电子工业迅速发展,印刷线路耗用铜箔量剧增,其厚度则相继降为0.15、0.13、0.105、0.07、0.05和0.035毫米。六十年代后电子设备日趋微型化,密度印刷线路的刻线宽度和线间距已缩到0.15~0.2毫米,1J76 软磁合金,为减少腐蚀时侧蚀,铜箔厚度又降到18微米以下,直至以厚7.6微米“布朗铜箔”为代表的厚5一10微米的极薄铜箔。我国铜箔生产始于六十年代,厚35~50微米的,其宽度有半米及一来两种,极薄铜箔的生产则刚刚起步。
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实践中发现有许多冶金和物理因素对软磁合金的磁性能有显著影响,通辽软磁合金,主要的影响因素有:成分化学成分是决定软磁合金性能的主要因素之一,例如在铁镍系合金中,好的软磁性能出现在镍含量为36%~83%的范围中。加入某些合金化元素如钼等,可提高电阻率,降低对应力的敏感性,同时提高起始磁导率,但饱和磁化强度和居里点有所下降。
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四十年代后期电子工业迅速发展,印刷线路耗用铜箔量剧增,其厚度则相继降为0.15、0.13、0.105、0.07、0.05和0.035毫米。六十年代后电子设备日趋微型化,密度印刷线路的刻线宽度和线间距已缩到0.15~0.2毫米,1J76 软磁合金,为减少腐蚀时侧蚀,铜箔厚度又降到18微米以下,直至以厚7.6微米“布朗铜箔”为代表的厚5一10微米的极薄铜箔。我国铜箔生产始于六十年代,厚35~50微米的,其宽度有半米及一来两种,极薄铜箔的生产则刚刚起步。
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实践中发现有许多冶金和物理因素对软磁合金的磁性能有显著影响,通辽软磁合金,主要的影响因素有:成分化学成分是决定软磁合金性能的主要因素之一,例如在铁镍系合金中,好的软磁性能出现在镍含量为36%~83%的范围中。加入某些合金化元素如钼等,可提高电阻率,降低对应力的敏感性,同时提高起始磁导率,但饱和磁化强度和居里点有所下降。
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